RMS-1000P 高温四探针薄膜电阻率测试系统 — 1

产品概述

RMS-1000P 高温四探针电阻率测量系统面向半导体薄膜与晶圆表征。作为成熟的半导体测试设备制造商,我们采用双静电法实现精确的方阻与电阻率测量。系统配备专用弹簧探针夹具,可测试硅、锗、GaAs 及 ITO 薄膜,支持室温至 1000°C 的真空或可控气氛测试,服务于研发实验室与晶圆制造企业。

技术规格

参数 指标
测量原理 直线四探针法;双电测组合
主要测量 电阻率与方阻
量程 0.1 mΩ–100 MΩ
最高炉温 最高 1100°C
气氛 惰性/氧化/还原;真空;流动气氛
主要特点 一键升降;薄膜友好探针;专业薄膜软件
温度范围 RT-600°C / 1000°C
控温精度 ±0.5°C
控温方式 PID 精密控温
升温速率 0-10°C/min(典型 3°C/min)
电阻量程 0.1mΩ ~ 100MΩ
电阻率量程 1mΩ·cm ~ 10MΩ·cm
方阻量程 0.1mΩ ~ 100MΩ
样品规格 薄膜 15-30 mm,厚度 d<4 mm
测量方法 四探针双静电法
电极材料 碳化钨 / 铂探针
探针绝缘电阻 ≥1000MΩ
绝缘材料 99% 氧化铝陶瓷
显示 10.1" 彩色触摸屏
数据接口 USB
通讯接口 LAN 网口
数据存储 TXT 格式
外形尺寸(长×高×宽) 630×640×450 mm
重量 42.5 kg
电源 220V±10%,50Hz,2.6 kW
执行标准 ASTM F84,GB/T1551-2009,GB/T1551-1995

应用场景

  1. RMS-1000P 专用于半导体薄膜表征,包括硅晶圆、锗衬底、GaAs、InSb、GaAsAl、GaAsP、固溶体半导体及 ITO 导电玻璃,广泛应用于太阳能电池制造、LED 生产、集成电路研发与透明导电膜研究。

更多详情

四探针优势
经典直线探针布局,有助于避免损伤薄膜样品。
气氛选项
支持惰性/氧化/还原气氛、真空及流动气体,便于开展变温测量。

常见问题

  • RTS-1000P 的主要测量原理是什么?

    RTS-1000P 采用先进的电学表征技术,可高精度测量four-point probe resistivity meter,有效消除接触电阻与温漂干扰。
  • 支持哪些样品形状和规格?

    系统支持标准的圆片、块体、棒材等多种样品几何形状,并配备专用高可靠性测试夹具。
  • RTS-1000P 是否符合国际实验室标准?

    符合。所有测量方法均完全对接 ASTM、IEEE、GB/T 等国际与国家行业标准,确保数据权威可信。